Проведен анализ ошибок фотометрического контроля толщин слоев при вакуумном  напылении многослойных интерференционных систем. Показано, что при контроле  толщин растущего слоя по изменению спектральной характеристики пропускания  (отражения) в определенном интервале длин волн погрешность измерения сигнала  не более 1% приводит к существенным ошибкам контроля толщин осаждаемых сло-ев. В случае контроля сквозным методом на расчетных фиксированных длинах волн  ошибки менее значительны. Предложена оптическая система, позволяющая проводить  контроль толщины слоев покрытия в процессе их нанесения по отражению непосред-ственно по рабочим деталям или свидетелю, расположенному рядом с деталями на  куполе вращения.

Ключевые слова: фотометрический контроль, многослойные интерференционные системы