Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
Апрель 2014 № 4(81)
УДК 53.087.92 + 681.7.064

ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ УГЛОВ ПАДЕНИЯ ЛУЧЕЙ АКТИНИЧНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПОВЕРХНОСТЬ ФОТОШАБЛОНА НА УГЛОВЫЕ ПОГРЕШНОСТИ ЛИМБОВ, ИЗГОТОВЛЕННЫХ МЕТОДОМ ОБРАТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ

Кручинин Д. Ю.


Читать статью полностью 
Рассмотрены результаты исследования влияния углов падения лучей актиничного излучения на поверхность фотошаблона в операции контактного экспонирования тех- нологического процесса обратной фотолитографии на угловые погрешности круговых оптических шкал (лимбов). 
Ключевые слова:  круговая оптическая шкала, лимб, угловая погрешность, обратная фотолитография
Информация 2002-2017 ©
Научно-технический «ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
Все права защищены.