Рассмотрены результаты исследования влияния углов падения лучей актиничного излучения на поверхность фотошаблона в операции контактного экспонирования тех- нологического процесса обратной фотолитографии на угловые погрешности круговых оптических шкал (лимбов). 

Ключевые слова:  круговая оптическая шкала, лимб, угловая погрешность, обратная фотолитография