Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
Январь 2014 № 1(81)
УДК666.1.036.2

Эллипсометрические исследования природной оксидной пленки на поверхности теллурида кадмия.

Одарич В. ., Евменова А., Сизов Ф.


Читать статью полностью 
Эллипсометрическими измерениями установлено, что процесс взаимодействия скола монокристаллического теллурида кадмия с атмосферным воздухом состоит из двух этапов. В первые 7-10 дней характер изменения измеряемых эллипсометрических параметров соответствует формированию поглощающего слоя толщиной в 1-2 моноатомных слоя. Начиная с 20-х суток, нарастает прозрачная пленка, возможно оксидная, показатель преломления которой близок к 2,2, а толщина увеличивается до 5-6 нм за время окисления до 1 года. Исходя из литературных данных сделано предположение, что внутренняя пленка является слоем свободного теллура, а внешняя образована окислами кадмия или теллура, либо их смесью.
Ключевые слова: эллипсометрия, природный оксид теллурида кадмия, параметры тонкой пленки
Информация 2002-2020 ©
Научно-технический «ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
Все права защищены.