Меню
Публикации
Главный редактор

ТИБИЛОВ
Александр Саламович
к ф-м.н., ст.н.с
УДК 621.38
Жихарев Е., Кальнов В., Спирин А., Стрельцов Д.
Читать статью полностью
НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА
Читать статью полностью

Предложен новый “сухой” метод формирования рисунка маски или любого друго- го рельефа в некоторых позитивных резистах путем прямого травления резиста непо- средственно в процессе экспонирования электронным лучом. Метод весьма эффекти- вен при формировании пространственных 3D структур и, по-видимому, может быть успешно использован в оптоэлектронике.
Ключевые слова:
оптоэлектроника, электронная литография, сухое травление ре- зиста, 3D структуры