Предложен новый “сухой” метод формирования рисунка маски или любого друго- го рельефа в некоторых позитивных резистах путем прямого травления резиста непо- средственно в процессе экспонирования электронным лучом. Метод весьма эффекти- вен при формировании пространственных 3D структур и, по-видимому, может быть успешно использован в оптоэлектронике.

Ключевые слова: оптоэлектроника, электронная литография, сухое травление ре- зиста, 3D структуры