Статья посвящена работам Конструкторского бюро точного электронного машиностроения (КБТЭМ-OMO), которое уже более 50 лет обеспечивает микроэлектронику оптико-механическим оборудованием. Благодаря применению этого оборудования размеры элементов интегральных схем уменьшились в 30 раз (с 5 мкм до 180 нм), точность их расположения на всей площади кристалла увеличилась в 200 раз (с 2 мкм до 10 нм). Первые интегральные схемы с десятками транзисторов превратились в сложные функциональные системы с миллиардами транзисторов.

Ключевые слова: оптико-механическое оборудование для фотолитографии, микролитография