Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
Апрель 2014 № 4(81)
УДК 53.082.53

Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле

Одарич В. .


Читать статью полностью 
В спектральной области 314–632 нм проведены многоугловые эллипсометрические  исследования пленок диоксида гафния толщиной 30–300 нм, нанесенных на оптическое  стекло методом напыления материала электронным пучком. Обнаружено, что совокуп- ность эллипсометрических данных можно описать в модели двухслойной отражательной  системы. Найдены параметры системы. Внутренний слой является однородным, его показатель преломления в пределах погрешности процедуры вычисления одинаковый  для всех исследованных образцов, а толщина растет в процессе напыления пленки.  Внешний слой имеет меньший показатель преломления, чем внутренний, а его толщина  для разных образцов изменяется в пределах 10–20 нм.
Ключевые слова: диоксид гафния, микроструктура пленки, однослойная модель,  двухслойная модель
Информация 2002-2017 ©
Научно-технический «ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
Все права защищены.