Меню
Публикации
Главный редактор

ТИБИЛОВ
Александр Саламович
к ф-м.н., ст.н.с
УДК53.082.53
Одарич В. .
Читать статью полностью
Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле
Читать статью полностью

В спектральной области 314–632 нм проведены многоугловые эллипсометрические исследования пленок диоксида гафния толщиной 30–300 нм, нанесенных на оптическое стекло методом напыления материала электронным пучком. Обнаружено, что совокуп- ность эллипсометрических данных можно описать в модели двухслойной отражательной системы. Найдены параметры системы. Внутренний слой является однородным, его показатель преломления в пределах погрешности процедуры вычисления одинаковый для всех исследованных образцов, а толщина растет в процессе напыления пленки. Внешний слой имеет меньший показатель преломления, чем внутренний, а его толщина для разных образцов изменяется в пределах 10–20 нм.
Ключевые слова:
диоксид гафния, микроструктура пленки, однослойная модель, двухслойная модель