Представлены результаты применения вакуумных ультрафиолетовых эксиламп на возбужденных димерах инертных газов Xe*2 (172 нм), Kr*2 (146 нм), Ar*2 (126 нм) в научных исследованиях и промышленной практике, а именно, в светотехнике, аналитическом приборостроении, создании новых оптических материалов, фотохимии, модифицировании свойств поверхности.

Ключевые слова: вакуумное ультрафиолетовое излучение, эксимер, эксилампа