Приведены результаты разработки уникальной метрологической платформы, предназначенной для исследования нанодефектов объекта и измерения плоскостности его поверхности на больших площадях. Конструкция платформы основана на согласованном применении метода модуляционной интерференционной микроскопии и бесконтактных аэромагнитных направляющих. Рассмотрены оптическая схема и алгоритм получения панорамных изображений. Показаны перспективы применения метрологической платформы в оптической и полупроводниковой промышленности.

Ключевые слова: модуляционная интерференционная микроскопия, сверхразрешение, топология интегральных схем, контроль качества