Представлены результаты экспериментальных исследований оптической записи и термического усиления фазовых решеток в новой полимерной композиции с диффузионным усилением на основе ПММА и бензофенона. Фазовые решетки записывали экспонированием слоев некогерентным УФ излучением (365 нм) через амплитудную маску и интерференционной картиной, формируемой излучением импульсного Nd:YAG-лазера (355 нм). Постэкспозиционная термическая обработка слоев привела к усилению решеток. Кинетика процесса согласуется с представлениями о диффузионной природе усиления. Фото- и термостабильность решеток после усиления позволила сделать вывод о том, что в слоях происходит фотоприсоединение бензофенона к ПММА, приводящее к диффузионной релаксации неоднородного распределения концентрации бензофенона. Достигнута модуляция показателя преломления 1,610–3 для слоев ПММА, содержащих бензофенон с мольной долей 2%.

Ключевые слова: фазовый регистрирующий материал, бензофенон, фотоприсо-единение, диффузионное усиление