Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
Апрель 2014 № 4(81)
УДК 535.343.2; 544.54

Зависимости интенсивности полос поглощения в высокочистых кварцевых стеклах от флюенса электронного пучка

Сергеев А. ., Сергеев П. .


Читать статью полностью 
Для изучения образования дефектов в кварцевых стеклах типа КС-4В, КУ-1 и Корнинг 7980 под действием электронного пучка использован метод разложения спектров наведенного поглощения на индивидуальные полосы с максимумами на длинах волн 163,5, 183,5, 213, 225, 244 и 260 нм. У всех стекол интенсивности большинства индивидуальных полос с ростом флюенса электронного пучка насыщались при дозах около 90 МГр. Величина стационарного поглощения на 260, 213 и 183 нм у КС-4В была в 2–4 раза меньше, чем у КУ-1. Интенсивности полос на 163 нм у этих стекол практически совпадали и монотонно возрастали с ростом флюенса электронного пучка. Это говорит об ударном механизме наработки кислороддефицитных центров, ответственных за эту полосу.
Ключевые слова: кварцевое стекло, спектры поглощения, индивидуальные полосы, дефекты, электронный пучок
Информация 2002-2017 ©
Научно-технический «ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
Все права защищены.