Научно-технический
«ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
издается с 1931 года
Апрель 2014 № 4(81)
УДК 681.7.031

ЭКСПОЗИЦИОННЫЕ ЗАВИСИМОСТИ ФОТОСТИМУЛИРОВАННОГО РАСПАДА РАДИАЦИОННЫХ ЦЕНТРОВ ОКРАСКИ В СТЕКЛАХ

Бедрин А. ., Докучаев В. ., Лаврентюк С. .


Читать статью полностью 
Исследованы пространственные распределения поглощения радиационных центров окраски, образующиеся в протяженных образцах стекол в результате последовательного действия на них направленных потоков гамма- и оптического излучений. Разработана экспериментальная методи­ка, позволяющая определять экспозиционные зависимости поглощения центров окраски, распа­дающихся под действием света, и связь параметров этих зависимостей со значениями дозы гамма-излучения. Показано, что по сравнению с традиционно используемыми вновь разработан­ная методика позволяет существенно сократить количество облучений образцов и повысить точ­ность и детальность получаемых результатов. Полученные в работе новые экспериментальные возможности использованы для исследования свинцово-силикатного стекла ТФ5.
Информация 2002-2017 ©
Научно-технический «ОПТИЧЕСКИЙ ЖУРНАЛ»
Все права защищены.