Исследованы закономерности формирования трехмерных полимерных микро- структур в УФ-отверждаемом нанокомпозите. Установлена связь размерных характе- ристик элементов микроструктур с экспозиционными параметрами, характеристиками амплитудной маски, толщиной слоя. Определены пути уменьшения характеристиче- ских размеров элементов микроструктур и увеличения форматного отношения.

Ключевые слова: полимерная микроструктура, нанокомпозит, фотополимеризация, глубокая литография, характеристический размер, форматное отношение.