Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждае- мых мономерных композитах. Исследованы основные эффекты, определяющие параметры форми­руемых структур: самофокусировка света в материале с положительным знаком изменения показателя преломления при фотополимеризации, усадка при полимеризации, скорость диффузии фоторади­калов. Определены условия получения микроструктур с форматным отношением до 1:50.